Россия представила план развития литографических машин EUV к 2037 году

Zdjęcie: Rosja przedstawia plan rozwoju maszyn litograficznych EUV do 2037 roku


Россия обнародовала новую дорожную карту развития 11,2 нм технологии литографии EUV на период до 2037 года. Проект предполагает три этапа разработки — от строительства машины, способной работать в литографии 40 нм в 2026 году до систем суб-10 нм с 2033 по 2036 год. За разработку плана отвечает Институт физики микроструктур РАН, а сама концепция существенно отличается от решений, используемых АСМЛ. Русские не хотят копировать существующую архитектуру, но полагаются на альтернативную архитектуру.